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    TI發(fā)布業(yè)內(nèi)首款80V半橋GaN FET模塊

    -- 全集成GaN FET功率級原型機
    -- 幫助電源設計人員迅速了解GaN的極致優(yōu)勢
    德州儀器推出了業(yè)內(nèi)首款80V、10A 集成氮化鎵(GaN)場效應晶體管(FET)功率級原型機。此次原型機由位于四方扁平無引線(QFN)封裝內(nèi)的一個高頻驅(qū)動器和兩個采用半橋配置的GaN FET組成,使之非常易于設計。

    北京2015年3月20日電 /美通社/ -- 近日,德州儀器推出了業(yè)內(nèi)首款80V、10A 集成氮化鎵 (GaN) 場效應晶體管 (FET) 功率級原型機。此次原型機由位于四方扁平無引線 (QFN) 封裝內(nèi)的一個高頻驅(qū)動器和兩個采用半橋配置的GaN FET組成,使之非常易于設計。如需了解更多信息,敬請訪問 http://www.ti.com.cn/lmg5200-pr-cn。

    全新的 LMG5200 GaN FET功率級原型機將有助于加快下一代 GaN 電源轉換解決方案的市場化,此方案為空間有限且高頻的工業(yè)應用和電信應用提供更高的功率密度和效率。

    TI高壓電源解決方案業(yè)務部副總裁 Steve Lambouses 表示:“過去基于 GaN 的電源設計面對的一大挑戰(zhàn)是與驅(qū)動 GaN FET 有關的不確定性,以及由封裝方式和設計布局布線所導致的寄生效應。我們將采用先進、易于設計封裝的經(jīng)優(yōu)化集成模塊、驅(qū)動器和高頻控制器,組成的完整、可靠電源轉換生態(tài)系統(tǒng),從而使設計人員可以充分實現(xiàn) GaN 技術在電源應用方面的全部潛能?!?/p>

    實現(xiàn)GaN的優(yōu)勢

    通常情況下,使用 GaN FET 在高頻下進行開關的設計人員必須謹慎對待電路板布局布線,以避免振鈴和電磁干擾 (EMI)。TI 的 LMG5200雙80V 功率級原型機極大地簡化了這個問題,同時又通過減少關鍵柵極驅(qū)動回路中的封裝寄生電感增加了功率級效率。LMG5200的特色就在于運用了高級多芯片封裝技術,在優(yōu)化后還能夠支持頻率高達5MHz 的電源轉換拓撲結構。

    易于使用的6mmx8mm QFN 封裝無需底部填充,從而大大簡化了生產(chǎn)制造過程。封裝尺寸的減少進一步提升了GaN 技術的應用價值,并且有助于擴充 GaN 電源設計的用途,包括從高頻無線充電應用到48V電信和工業(yè)設計的許多全新應用。如需了解與TI完整 GaN 解決方案相關的更多信息,敬請訪問http://www.ti.com.cn/lsds/ti_zh/power-management/gate-driver-products.page。

    LMG5200的關鍵特性和優(yōu)勢:

    • 較高功率密度。相對基于硅工藝的設計,首款集成80V 半橋 GaN 功率級將功率損耗減少了25%,從而實現(xiàn)了單級轉換。
    • 增加可靠性的綜合GaN專用質(zhì)量保證計劃。如需了解更多內(nèi)容,敬請單擊此處。
    • 關鍵柵極驅(qū)動回路中的較低封裝寄生電感增加了功率級效率,并在減少 EMI 的同時提高 dV/dt 抗擾度。
    • 簡化的布局布線和可制造性。易于使用的 QFN 封裝免除了對于底部填充的需要,以解決高壓間隔方面的顧慮,從而提高了電路板的可制造性并降低了成本。

    工具和軟件

    除了訂購已上市的 LMG5200評估模塊 (EVM),設計人員使用針對LMG5200的 PSpice 和 TINA-TI 模塊來仿真這項技術的性能和開關頻率優(yōu)勢,以便更快地開始設計工作。

    供貨情況

    目前可在 TIStore 中購買 GaN 功率級的原型機樣片。

    其他資源:

    消息來源:德州儀器半導體技術(上海)有限公司
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    全球TMT
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