Toppan Photomask制造的半導(dǎo)體用光掩模，納米壓印光刻(NIL)母版采用同樣的材料、技術(shù)和工藝制造而成。

光掩模供應(yīng)商Toppan Photomask Co. Ltd.與為MEMS、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場提供晶圓鍵合及光刻設(shè)備的供應(yīng)商EV Group（EVG）宣布，兩家公司已達(dá)成協(xié)議，共同推廣賦能光電產(chǎn)業(yè)的大批量制造(HVM)工藝—納米壓印光刻技術(shù)(NIL)。

此次合作旨在確立NIL為光電制造的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)工藝，并加速其在HVM中實施，以支持各種應(yīng)用。這些應(yīng)用包括增強(qiáng)/混合/虛擬現(xiàn)實耳機(jī)、智能手機(jī)、汽車傳感器和醫(yī)療成像系統(tǒng)。（美通社,2022年9月20日奧地利圣弗洛里安和東京）